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高彩霞/陈宇航团队以水稻HPPD为模型创制双层优化等位基因

   2026-10-14 130
导读

2026年10月12日,中国科学院遗传与发育生物学研究所高彩霞、陈宇航团队在Nature Plants在线发表了题为《Coordinating structure-guided design and cis-regulatory optimization to engineer elite herbicide-tolerance alleles in crops》的研究。杂草抗药性加重,HPPD抑制剂是重要除草剂靶标,作物耐除草剂等位基因设计常

2026年10月12日,中国科学院遗传与发育生物学研究所高彩霞、陈宇航团队在Nature Plants在线发表了题为《Coordinating structure-guided design and cis-regulatory optimization to engineer elite herbicide-tolerance alleles in crops》的研究。杂草抗药性加重,HPPD抑制剂是重要除草剂靶标,作物耐除草剂等位基因设计常受酶活与抗性权衡限制。该研究把结构导向蛋白设计与顺式调控优化结合,以水稻HPPD为模型,设计编码区抗性变异并插入短调控元件,创制双层优化等位基因,并在小麦验证。


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研究团队解析水稻HPPD与mesotrione的2.3 Å复合物结构,识别Val225、Phe250、Ser264、Gln304、Leu365、Phe378、Phe389、Gly414、Gly415和Gly417等口袋残基。他们替换这些位点,获得F378A、G414A、G415V和G417A/K/S/N/F等变异,体外催化效率中度下降而MST抑制常数升高,Gly417系列抗性最强。过表达变异的水稻在3.6 μM MST下保持绿色,G417在50 μM下仍多数存活;把替换放入内源OsHPPD后,prime editing效率为1.5%到61.5%,纯合株除G414A外普遍黄化致死,杂合株正常,温室标准剂量下G414A、G417A、G417N和G417F可存活,两倍剂量下全部死亡,编码编辑仅中等抗性。


双荧光素酶筛选找到22 bp表达调控元件EME,其中含12 bp植物保守回文序列,预测为bZIP结合位点。EME放在TSS附近效果最好,-100 bp到+59 bp内提高LUC活性3到56倍,+38位点最强,远离TSS无效。prime editing把EME插入OsHPPD的+38或-57位点后,转录和蛋白升高,+38高于-57,EME还让纯合G417A致死突变体完成生命周期;单独EME只延迟MST白化,不足以形成高抗性。


QQ20261013-200459.png


EME与编码区变异组合后,G414A纯合+38替换和G417A杂合+38双等位插入材料表达明显增加,0.45 μM MST下保持绿色,温室1到8倍推荐剂量中417A(He)+38(BI)损伤最轻、鲜重最高。田间四倍推荐剂量692 g ai ha−1下,仅EME的野生型背景全部死亡,两个双层组合材料存活并接近未处理对照,417A(He)+38(BI)还抗isoxaflutole和fenpyrazone。小麦中两个pegRNA同时编辑TaHPPD-B1调控区和编码区,EME-G407A表达升高并在0.15 μM MST下保持浅绿;产量评价显示EME单独插入不影响产量,G414A纯合减产,417A杂合不减产,417A+38(BI)减产41%,WT/RP配置可减轻抗性与产量权衡。


论文链接:https://www.nature.com/articles/s41477-026-02423-4#citeas


来源: 公众号:BioPeers


 
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